欧美精品综合,草b是什么感觉视频,亚洲午夜精品久久久久久久久久久久,欧美亚洲日韩精品人妻

  • <i id="0scb8"></i>

    <p id="0scb8"><span id="0scb8"><del id="0scb8"></del></span></p>
    1. <p id="0scb8"></p>

      0755-83318988
      PRODUCTS CENTER

      產(chǎn)品中心

      WD4000無(wú)圖晶圓幾何量測(cè)系統(tǒng)

      產(chǎn)品簡(jiǎn)介

      WD4000無(wú)圖晶圓幾何量測(cè)系統(tǒng)自動(dòng)測(cè)量Wafer厚度、表面粗糙度、三維形貌、單層膜厚、多層膜厚?;诎坠飧缮鎴D的光譜分析儀,通過(guò)數(shù)值七點(diǎn)相移算法計(jì)算,達(dá)到亞納米分辨率測(cè)量表面的局部高度,實(shí)現(xiàn)膜厚測(cè)量功能。

      產(chǎn)品型號(hào):
      更新時(shí)間:2025-04-07
      廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
      訪問(wèn)量:1401
      詳細(xì)介紹在線留言

      WD4000無(wú)圖晶圓幾何量測(cè)系統(tǒng)自動(dòng)測(cè)量Wafer厚度、表面粗糙度、三維形貌、單層膜厚、多層膜厚。

      1、使用光譜共焦對(duì)射技術(shù)測(cè)量晶圓Thickness、TTV、LTV、BOW、WARP、TIR、SORI等參數(shù),同時(shí)生成Mapping圖;

      2、采用白光干涉測(cè)量技術(shù)對(duì)Wafer表面進(jìn)行非接觸式掃描同時(shí)建立表面3D層析圖像,顯示2D剖面圖和3D立體彩色視圖,高效分析表面形貌、粗糙度及相關(guān)3D參數(shù);

      3、基于白光干涉圖的光譜分析儀,通過(guò)數(shù)值七點(diǎn)相移算法計(jì)算,達(dá)到亞納米分辨率測(cè)量表面的局部高度,實(shí)現(xiàn)膜厚測(cè)量功能;

      4、紅外傳感器發(fā)出的探測(cè)光在Wafer不同表面反射并形成干涉,由此計(jì)算出兩表面間的距離(即厚度),可適用于測(cè)量BondingWafer的多層厚度。該傳感器可用于測(cè)量不同材料的厚度,包括碳化硅、藍(lán)寶石、氮化鎵、硅等。

      8008002.jpg

      測(cè)量功能

      1、厚度測(cè)量模塊:厚度、TTV(總體厚度變化)、LTV、BOW、WARP、TIR、SORI、平面度、等;

      2、顯微形貌測(cè)量模塊:粗糙度、平整度、微觀幾何輪廓、面積、體積等。

      3、提供調(diào)整位置、糾正、濾波、提取四大模塊的數(shù)據(jù)處理功能。其中調(diào)整位置包括圖像校平、鏡像等功能;糾正包括空間濾波、修描、尖峰去噪等功能;濾波包括去除外形、標(biāo)準(zhǔn)濾波、過(guò)濾頻譜等功能;提取包括提取區(qū)域和提取剖面等功能。

      4、WD4000無(wú)圖晶圓幾何量測(cè)系統(tǒng)提供幾何輪廓分析、粗糙度分析、結(jié)構(gòu)分析、頻率分析、功能分析等五大分析功能。幾何輪廓分析包括臺(tái)階高、距離、角度、曲率等特征測(cè)量和直線度、圓度形位公差評(píng)定等;粗糙度分析包括國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)ISO4287的線粗糙度、ISO25178面粗糙度、ISO12781平整度等全參數(shù);結(jié)構(gòu)分析包括孔洞體積和波谷。


      部分技術(shù)規(guī)格

      品牌:CHOTEST中圖儀器

      型號(hào):WD4000系列


      厚度和翹曲度測(cè)量系統(tǒng)

      可測(cè)材料:砷化鎵 ;氮化鎵 ;磷化 鎵;鍺;磷化銦;鈮酸鋰;藍(lán)寶石;硅 ;碳化硅 ;玻璃等

      測(cè)量范圍:150μm~2000μm

      掃描方式:Fullmap面掃、米字、自由多點(diǎn)

      測(cè)量參數(shù):厚度、TTV(總體厚度變 化)、LTV、BOW、WARP、平面度、線粗糙度


      三維顯微形貌測(cè)量系統(tǒng)

      測(cè)量原理:白光干涉

      干涉物鏡:10X(2.5X、5X、20X、50X,可選多個(gè))

      可測(cè)樣品反射率:0.05%~100%

      粗糙度RMS重復(fù)性:0.005nm

      測(cè)量參數(shù):顯微形貌 、線/面粗糙度、空間頻率等三大類(lèi)300余種參數(shù)


      膜厚測(cè)量系統(tǒng)

      測(cè)量范圍:90um(n= 1.5)

      景深:1200um

      最小可測(cè)厚度:0.4um


      紅外干涉測(cè)量系統(tǒng)

      光源:SLED

      測(cè)量范圍:37-1850um


      晶圓尺寸:4"、6"、8"、12"

      晶圓載臺(tái):防靜電鏤空真空吸盤(pán)載臺(tái)

      X/Y/Z工作臺(tái)行程:400mm/400mm/75mm

      如有疑問(wèn)或需要更多詳細(xì)信息,請(qǐng)隨時(shí)聯(lián)系中圖儀器咨詢(xún)。


      800應(yīng)用1.jpg


      應(yīng)用場(chǎng)景

      1、無(wú)圖晶圓厚度、翹曲度的測(cè)量

      無(wú)圖晶圓厚度、翹曲度的測(cè)量.jpg

      通過(guò)非接觸測(cè)量,將晶圓上下面的三維形貌進(jìn)行重建,強(qiáng)大的測(cè)量分析軟件穩(wěn)定計(jì)算晶圓厚度、粗糙度、總體厚度變化(TTV),有效保護(hù)膜或圖案的晶片的完整性。


      2、無(wú)圖晶圓粗糙度測(cè)量

      無(wú)圖晶圓粗糙度測(cè)量.jpg

      Wafer減薄工序中粗磨和細(xì)磨后的硅片表面3D圖像,用表面粗糙度Sa數(shù)值大小及多次測(cè)量數(shù)值的穩(wěn)定性來(lái)反饋加工質(zhì)量。在生產(chǎn)車(chē)間強(qiáng)噪聲環(huán)境中測(cè)量的減薄硅片,細(xì)磨硅片粗糙度集中在5nm附近,以25次測(cè)量數(shù)據(jù)計(jì)算重復(fù)性為0.046987nm,測(cè)量穩(wěn)定性良好。

      懇請(qǐng)注意:因市場(chǎng)發(fā)展和產(chǎn)品開(kāi)發(fā)的需要,本產(chǎn)品資料中有關(guān)內(nèi)容可能會(huì)根據(jù)實(shí)際情況隨時(shí)更新或修改,恕不另行通知,不便之處敬請(qǐng)諒解。

      在線留言

      留言框

      • 產(chǎn)品:

      • 您的單位:

      • 您的姓名:

      • 聯(lián)系電話:

      • 常用郵箱:

      • 省份:

      • 詳細(xì)地址:

      • 補(bǔ)充說(shuō)明:

      • 驗(yàn)證碼:

        請(qǐng)輸入計(jì)算結(jié)果(填寫(xiě)阿拉伯?dāng)?shù)字),如:三加四=7

      關(guān)注公眾號(hào),了解最新動(dòng)態(tài)

      關(guān)注公眾號(hào)
      0755-83318988

      Copyright © 2025 深圳市中圖儀器股份有限公司版權(quán)所有

      技術(shù)支持:化工儀器網(wǎng)    sitemap.xml

      備案號(hào):粵ICP備12000520號(hào)